Apabila tiba masa untuk menghidangkan makanan, menunggu sehingga oven kembali ke suhu yang sesuai memerlukan masa yang lama, dan ini akan mengganggu jadual penyediaan makanan. Kelewatan dalam proses pemanasan serta pengagihan haba yang tidak merata menyebabkan pizza yang dibakar menjadi tidak sempurna – bahagian tengahnya lembap, manakala permukaannya pula kurang masak. Oleh itu, kami mencipta stesen pemanas berbahan seramik yang dilengkapi dengan pemancar IR, agar dapat digunakan bersama-sama dengan oven biasa. Dengan cara ini, haba dapat disalurkan dengan cepat dan secara merata, tanpa perlu membebankan oven utama.
Apa yang penting dari segi teknikalnya:
Plat seramik yang padat digabungkan dengan pemancar IR gelombang pendek, yang mampu menghasilkan haba yang stabil dalam masa kurang dari 60 saat. Suhu yang dihasilkan adalah antara 60–90°C, dan haba tersebut diagihkan secara merata, supaya tidak ada kawasan yang terlalu panas atau sejuk pada permukaan pizza. Dengan cara ini, proses pemulihan suhu berlaku dengan lebih cepat, dan suhu tetap stabil semasa proses pemanggolan atau pemanasan, tanpa menyebabkan produk menjadi kering.
Mengapa ia berkesan dalam operasi harian:
Alat ini diletakkan di tempat yang sering menjadi titik kebocoran masa, seperti di sebelah oven utama atau di bawah mesin pembakar. Dengan adanya alat ini, beban pada oven utama berkurangan, membolehkan pizza yang sudah siap dipanaskan, atau permukaan pinggan dipanaskan sedikit sebelum dikhidangkan, sementara oven utama tetap berfungsi seperti biasa. Ini membantu mengurangkan fluktuasi suhu, mempercepatkan proses pembakaran, dan menjadikan operasi lebih efisien ketika jumlah pesanan meningkat.
Butiran praktikalnya:
Oleh kerana kuasa pancaran IR berkurangan mengikut jarak, jarak antara pemancar dan plat seramik perlu ditetapkan dengan tepat – biasanya antara 10–15 mm. Anda perlu memastikan jarak ini dikekalkan semasa pemasangan. Alat ini beroperasi menggunakan voltan standard 240 V, tetapi pastikan kapasiti panel elektrik mencukupi. Elakkan pemancar daripada terdedah kepada wap atau cecair yang banyak. Anggaplah alat ini sebagai sumber haba tambahan untuk membantu proses pemanasan, bukan pengganti untuk proses pembakaran utama.